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半導體制程含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣 應就地配置廢氣處理設備的原因

半導體制程含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣 應就地配置廢氣處理設備的原因

發(fā)布時(shí)間:2020-11-24
在半導體工藝制程中,需要使用多種特殊氣體、大量的酸、堿等化學(xué)品以及有機溶劑和揮發(fā)性液體,這些氣體和化學(xué)品在半導體制造的不同工藝中使用會(huì )產(chǎn)生廢氣,這些廢氣如果沒(méi)有經(jīng)過(guò)廢氣處理設備很好的處理便進(jìn)行排放,將造成嚴重的問(wèn)題,不僅影響人們的身體健康,惡化大氣環(huán)境,造成環(huán)境污染的公害事件等,也會(huì )成為半導體制造中AMC污染的重要來(lái)源。半導體制程工藝中產(chǎn)生的廢氣類(lèi)別大概有:一般氣體廢氣、含毒性物質(zhì)的廢氣、有機廢氣和含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣。對于含有酸性/堿性物質(zhì)的廢氣,半導體廠(chǎng)大多采用大型洗滌式中央廢氣處理系統進(jìn)行處理。但由于半導體制造工作區域離中央廢氣處理系統距離較遠,因此部分酸性/堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統前,常因氣體特性導致在管道中結晶或粉塵堆積,造成管道堵塞后導致氣體外泄,嚴重者甚至引發(fā)爆炸,危害現場(chǎng)工作人員的工作安全。所以,在工作區域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設備進(jìn)行就地處理,之后在排入中央處理系統,從而避免事故的發(fā)生,這就是為什么應就地配置廢氣處理設備的原因。
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